电子束物理气相沉积制备技术及其应用

价　　格：¥25.80

作　　者：赫晓东等编著

ISBN：978-7-5603-4486-7

出版社：哈尔滨工业大学出版社

出版日期：2013.10

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内容简介

书名：电子束物理气相沉积制备技术及其应用
作者：赫晓东等编著
ISBN：978-7-5603-4486-7
出版社：哈尔滨工业大学出版社
出版日期：2013.10
本书主要介绍电子束物理气相沉积（EB—PVD）技术的发展及热点；电子束物理气相沉积的相关理论基础；电子束物理气相沉积的工艺方法与理论及电子束物理气相沉积热障涂层技术等内容。本书可供从事电子束物理气相沉积技术的人员作为参考书。

上一本：薄膜光学与真空镀膜技术

下一本：聚合物科学与工程实验