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原子层沉积技术——从制造原理到装备应用

价  格:¥25.80

作  者:陈蓉,单斌,曹坤,刘潇著

ISBN:978-7-5772-1800-7

出版社:华中科技大学出版社

出版日期:2025.05

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内容简介

书名:原子层沉积技术——从制造原理到装备应用
作者:陈蓉,单斌,曹坤,刘潇著
ISBN:978-7-5772-1800-7
出版社:华中科技大学出版社
出版日期:2025.05
本书围绕原子层沉积技术,针对原子层沉积工艺、纳米结构可控制造方法、智能制造装备研发、应用等方面进行阐述,全书共分为9章。其中第1章阐述了原子层沉积技术的基本原理与工艺,第2-3章分别介绍了平面型原子层沉积、粉末原子层沉积的方法与装备;第4章对选择性原子层沉积工艺方法进行了详细介绍;第5-9章讨论了原子沉积技术在光致发光、电致发光、柔性封装、热催化、能源材料等领域的应用,是前述章节理论方法的验证与拓展。本书本书可作为半导体、泛半导体、能源催化等领域中从事材料、工艺和装备方面工作的研究人员和工程技术人员的参考用书,也可作为高等院校先进电子制造、能源环境相关专业的规划教材和教辅用书。