物理气相沉积工艺及设备

书名：物理气相沉积工艺及设备
作者：赵晋荣主编
ISBN：978-7-121-51657-3
出版社：电子工业出版社
出版日期：2026.01
北方华创研发的物理气相沉积设备具有良好的工艺性能，凭借在金属化薄膜工艺技术、等离子体控制、腔室设计与控制、软件技术等多方面的积累与创新，广泛应用于微电子产品制造领域。基于已公开发表的文献以及北方华创物理气相沉积工艺团队二十多年来对物理气相沉积工艺研究的经验和结论，本书系统地介绍了物理气相沉积工艺及设备的问题和解决方案，内容包括集成电路产业简介、等离子体的基本概念、物理气相沉积技术的发展与概述、逻辑芯片制造中的物理气相沉积工艺、封装技术中的物理气相沉积工艺、物理气相沉积设备、磁控技术。